說(shuō)一下人像后期處理的大致流程(2)

一般人像沒(méi)有嚴(yán)重的曝光差異問(wèn)題可以跳過(guò)下面的局部修正步驟，但為了讓人物突出，也是可以使用此技術(shù)的。

使用局部畫(huà)筆進(jìn)一步修正曝光差異，Lightroom有很強(qiáng)的局部畫(huà)筆編輯能力，可以直接在照片上以RAW水平進(jìn)行局部的曝光調(diào)整，需要善加利用。

快捷鍵K打開(kāi)畫(huà)筆工具，拉低高光和曝光。

在背景過(guò)曝區(qū)域涂抹，可以按O鍵顯示畫(huà)筆覆蓋區(qū)，可以按住Opt鍵反轉(zhuǎn)為橡皮擦工具，涂掉人臉上不需要降低曝光的區(qū)域。

右側(cè)新建另一個(gè)局部畫(huà)筆。

提升曝光、陰影、對(duì)比度、清晰度等，可以自己嘗試合適的參數(shù)。

在背光陰影處的人像區(qū)域涂抹。

可以適當(dāng)調(diào)整畫(huà)筆參數(shù)、多增加幾個(gè)畫(huà)筆、調(diào)整整體曝光來(lái)逐步修正。

調(diào)整后的效果，修正了因背光造成的曝光問(wèn)題。