ps暗黑藝術(shù)字(4)
來源:太平洋電腦網(wǎng)
作者:李華仁
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18、勾選斜面和浮雕復(fù)選項(xiàng),樣式:外斜面,方法:平滑,深度:1000%,方向:下,大小:1像素,軟化:0像素,角度:90,高度:0度,高光模式為:排除,顏色為:白色,不透明度為20%,陰影模式為:正常,顏色為:黑色,不透明度為:100%,其他設(shè)置值參考圖18,如圖18所示。
圖18
19、勾選描邊選項(xiàng),設(shè)置大小為2像素,位置為居中,混合模式為正常,不透明度為100%,填充類型為漸變,點(diǎn)擊漸變色標(biāo)處,彈出漸變編輯器,雙擊如圖20中的A處,設(shè)置色彩RGB分別為22、5、0.再雙擊圖20中所示的B處,設(shè)置RGB分別為149、88、31,再雙擊圖20中所示的C處,設(shè)置RGB分別為0、0、0,設(shè)置樣式為線性,勾選圖層對(duì)齊,角度為90度,縮放為109%,如圖19、20所示
圖19
圖20
20、經(jīng)過調(diào)整后的效果圖,如圖21所示。
圖21
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